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연구소 소개 laboratory

연구실적

Polysilicon

작성자 최고관리자

작성일 2022.10.20

201회

Polysilicon 표면의 이물질 및 석영을 제거하기 위하여 통상 물리적 연마와 기존 화학 세정액을 사용하여 처리를 하였습니다.
하지만 물리적 연마는 표면에 이물질 잔류 및 완벽한 세정이 어렵고 기존 화학적 공정은 수율이나 완벽한 세정이 되지 않아
문제가 발생하였습니다. 하지만 순정 자체 개발 세정액을 적용한 공정으로 처리 하였을 경우 소재 표면의 활성화를 통하여 완벽한 이물질 제거 및 수율이 월등하게 향상된 경과를
가져왔고 현재 여러 업체의 제품에 적용 중에 있습니다.

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